半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
好项目的背景
本次目在长角形区域某各国级光电器件财产垂钓区,企业主主要的生产销售84屏幕尺寸和124屏幕尺寸晶圆,曰产量达到了2万片。伴随产能提高,原先的污废水 加工操作系统已无非满意节能规定,现需升级成提升。项目流程总投资人约1300万元,构思加工业务能力为300吨/日,于202半年建设完工投入使用。
废污水成分表及来原
该中小型企业晶圆划区加工过程制造的电镀废水基本包含了一下因素:
分割阶段中适用的磨研液存留物,注意有效成分为二腐蚀硅小粒、从表面可溶性剂和可挥发更改剂
晶圆从表面清洁工作发生的含氟废水处理方法,氟正离子含量在80-120mg/L
一些天价属化合物如铜、镍等,来源地于切除软件变形
生产稀释剂残存,比如异丙醇、二甲苯等
pH值冲击极大,基本上在4-10内
处理的工艺方法
重视废水外理因素,设计制作分为"物理化学预外理+生物化外理+深度的外理"的整合加工过程:
控制池
:动态平衡水的硬度发电量,设为pH在线播放评估和自动化加量系統
混凝土沉淀自己
:污泥脱水PAC和PAM,清理漂浮物和悬浊液东西
气浮单元测试
:主要采用溶气气浮工艺技术进一歩清掉的细小科粒和部份充分物
生化模式外理
:用MBR膜动物体现器,工业废水质量浓度提升在8000-10000mg/L
深度.治理
:活力性炭活性炭吸附+反渗工序,确认出液符合标准
污泥治疗治疗
:板框过滤机脱水怎么办,厌氧颗粒污泥含水量率降到60%下类
操作目的
设计稳固运营后,出水量污水水质是提升《光电制造业水弄脏物减排基准》(GB39731-2020)很减排标准值标准:
COD<30mg/L
氟亚铁离子<5mg/L
透明桌面物<10mg/L
天价属一项招生指标均少于卫生防护距离
楼盘第年可以减少空气工业废气排放口量约COD 32吨、氟化物8.5吨,中水回用水率符合75%以上的,为工业企业可以有水费费用约115万元/年。