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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

顶目背景图 该光电器件技术制造业客户为于苏南型东北部,具体生孩子8英尺和12英尺晶圆,日排放量规定废储水量约2000吨。因此光电器件技术生孩子工艺技术僵化,化工污水部分产品且含带好几种难挥发产物,制造业客户应有整理设备无发拥有不断严要求的环保规定排放量规定规定,故交易5000万元新创建技术专业化工污水整理站。 废水处理方法因素及源于 该制造业企业电镀废水具体为4类: 含氟废渣:来原于晶圆蚀刻、家电清洗工艺流程,氟化合物质量浓度高达到2000mg/L; 巧妙废渣:原于光刻、显影液等生产技术,具有刺激性异丙醇、异丙醇等巧妙容剂,COD值在5000mg/L之间; 腐蚀性焦化废水:生成于擦拭和漆层治疗节点,pH值价格波动大; 含铜废水处理工艺:来于化学镀和废金属热艺,铜正离子盐浓度约150mg/L。 解决加工过程过程 面对有差异本质特征的废气,分为"定义征集+分质净化清理+尾端淬硬层净化清理"的整合工艺设计: 含氟生产废水整理线: 多级无机化学水解:先污泥脱水氯化钙控制pH至6-7,多加入PAC和PAM二沉池水解; 活性酶氧化的铝物理吸附:抓好氟化合物渗透压减少为8mg/L以下的。 生物碳废水进行处理方法进行处理线: 微钛电极化学反应:铁碳填充料床预外理增加废气可生物化性; UASB厌氧发生反应釜发生反应釜:HRT=24h,COD快速清理率65%; MBR膜菌物反响器:利用PVDF空心氯纶膜,出液COD<50mg/L。 酸性废气结合程序: 自动的pH转换:可以通过线上监测数据仪管控加酸加碱量; 斜板结晶池结晶:剔除采和行成的自动隐藏物。 含铜污废水 清理: 化学上的沉淀物自己:添加NaOH控制pH至9-10,建立氢被氧化铜沉淀物自己; 化合物交易:确认铜化合物浓度值<0.3mg/L。 角度工作第一单元: 二氧化反应碳促使氧化反应:进三步可降解难降解物质物; 活性氧炭活性炭过滤:祛除浑浊度和氢化物发生器污染问题物; 紫外光线进行消毒:以保证出液生物体目标标准。 最终能够效果好 建设项目运转后,留水水的质量稳定性高到达《电子无线工业企业水感染物进行环保直接排放出口标准规定》(GB 39731-2020)特点进行直接排放出口标准值的要求,中仅氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。常年可避免氟化物进行直接排放出口约120吨,COD进行直接排放出口约400吨,收购 水网络资源约5万吨。掌控系统自己化度高,运转成本费掌控在8.5元/吨水作用。

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