半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
内容背静
该行业的专业生產光电器件用高纯氟化氢和六氟化钨,废水清理氟氧化还原电位非常高且组成复杂的。多余清理工学艺疗效不平稳,氟化物废气排放时会过高。内容投资费用2五百万元开发有能清理公用设施,定制清理效果500吨/天。
废水处理成分表及从何而来
废水处理方法重要出自制作环保设备洗滌和工业废气洗滌:
氟阳离子有机废气浓度:1500-3500mg/L
含磷酸根化合物:2000-5000mg/L
pH值:1-
含氢化物发生器钨、钼等金属材质事物
工作的工艺注意事项
对于高浓硫酸浓度特质,按照"与+多用沉淀物中+膜办理"生产工艺:
废水处理处理方法汇集池:分类别汇集不一样氨水浓度废水处理处理方法
采和想法池:分一阶段加药氢空气氧化的钠和氢空气氧化的钙,掌握终究pH至7.5-8.
斜管沉定池反應池:加药系统PAC和PAM怎强沉定作用
斜管发展池:提高效率固液分割
多物料滤过器:洗去狗瘟颗粒状
反构建程序:深层脱盐和除氟
工业废水浓缩造成过滤器模式:离心力过滤器后工业废水土石方工程工程专业加工
在线视频监测软件软件:雷达回波图监控设备氟阴离子溶液浓度和pH值
终极治疗效果
加工体统作业数据报告:
泡水氟正离子月均质量浓度:2800mg/L
喷水氟化合物密度:3.2mg/L(的平均)
氟清理率:99.9%大于
水使用率:高达65%
设计系统机械化层面高,达到焦化废水清理成本费减小30%,年收购 氟化钙副类产品约400吨。